真空離子滲碳爐是在真空容器中，利用輝光放電使?jié)B碳?xì)怏w電離，所產(chǎn)生的碳離子在電場作用下轟擊爐料表面進(jìn)行滲碳的熱處理爐。

      真空離子滲碳爐有電氣控制系統(tǒng)、真空爐體、滲碳?xì)怏w配氣系統(tǒng)、真空測量及控制系統(tǒng)等幾大部分組成，離子真空滲碳爐爐體的直徑和高度可根據(jù)工件的尺寸進(jìn)行設(shè)計。

真空離子滲碳爐的工藝簡介：

      離子滲碳工藝是在真空中加熱工件，并有高能離子的轟擊，致使被處理件表面潔凈與活化，再加上滲碳?xì)怏w由于熱分解與電離的雙重作用，并在直流脈沖電場的作用 下，使得工件表面附近的空間在短時間內(nèi)就形成高的碳離子濃度區(qū)，從而加速了碳向工件的滲入與擴(kuò)散，大大縮短滲碳時間。例如880℃，1h的離子滲碳就可獲 得0.6mm深的硬化層，同常規(guī)氣體滲碳相比，可以縮短約50%的時間。

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