立式管式氣氛爐的特別設(shè)計能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫，四面加熱，溫場更均勻，立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要！

適用范圍：

立式管式氣氛爐主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

用途：針對粉末表面沉積的CVD實驗，適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗。

特點：爐體垂直安裝在可移動支架上，四面加熱，溫場更均勻，流化床設(shè)計，反應(yīng)氣體和均勻地通過反應(yīng)區(qū)。

爐管尺寸：Φ50×1000mm

溫區(qū)長度：440mm(更多規(guī)格可按照客戶要求定制)

恒溫區(qū)長：200mm

工作溫度：1100℃（此溫度為長期加熱溫度）

最高溫度：1200℃

控溫方式：智能化30段可編程控制（用戶可選配液晶觸摸屏顯示）

控溫精度：±1℃

溫控保護：具有超溫和斷偶保護功能

加熱速率：0~20℃/分

加熱元件：含鉬合金加熱絲

工作電壓：AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制）

最大功率：3KW